Китайское название: тетраметиламмоний кремнекислый

Английское название: Тетраметиламмоний кремнезём

Молекулярная формула: С ₁₆ Х ₄₈ Н ₄ О ₄ Да

Форма поставки: обычно — 15–20% водный раствор

Механизм действия и применение: Данный продукт представляет собой источник растворимого силиката чрезвычайно высокой степени чистоты, не содержащий ионов металлов.

Алюминий / Медный антикоррозионный препарат: при очистке алюминия ( Все ) или медь ( Ку ) При обработке межсоединений сильно щелочные моющие растворы легко вызывают коррозию металлов. После добавления тетраметиламмонийного силиката ионы силикат-аниона преимущественно адсорбируются на поверхности металла, образуя чрезвычайно тонкую защитную пленку, которая подавляет коррозию, тогда как катионы тетраметиламмония поддерживают щелочную реакцию раствора, что способствует удалению остатков фоторезиста.

Предшественник для осаждения межслойной диэлектрической среды: будучи неметаллическим источником кремния, он также может использоваться в специфическом химическом осаждении из газовой фазы ( ХПР ) или методом центрифужного нанесения изоляционного слоя, что позволяет получать высокочистые тонкие пленки диоксида кремния и исключает риск загрязнения натриевыми ионами, характерный для традиционного использования силиката натрия.

Рыночный порог: ключевое конкурентное преимущество данного продукта заключается в выявлении металлических примесей ( частей на миллиард уровня) и способности к контролю за твёрдыми частицами. Наши продукты проходят специальную технологию ионного обмена и фильтрации, что полностью соответствует строгим стандартам реагентов полупроводникового класса.  。   

Контекст области применения:

Отраслевой контекст: вызов обеспечения чистоты на атомном уровне

В процессе производства полупроводников этап очистки пластин занимает значительную долю от общего числа операций. 30% Вышеизложенное. По мере уменьшения размеров технологического процесса даже незначительные загрязнения металлическими ионами (такими как натрий, калий, железо) могут приводить к утечке тока или пробою транзисторов. Традиционные неорганические щёлочи (например, NaOH/KOH ) Из-за содержания металлических ионов его строго запрещено использовать в передовых технологических процессах; вместо него применяется тетраметилгидроксиламмоний ( ТМАНь ) и другие системы органических оснований.